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（1）鏡面的高光澤及高整平，飽滿度強、出光速度快。

（2）鍍層不易起針孔，內(nèi)應(yīng)力低、延展性佳。

（3）電流密度范圍寬廣，沉積速度快，填平及低區(qū)的光澤優(yōu)良。

（4）光劑穩(wěn)定容易管理，長期使用也不會產(chǎn)生分解物。

(1)成分：當銅或硫酸的濃度太低時高電位容易產(chǎn)生樹枝狀和燒焦。
(2)氯離子：太低時低電區(qū)的平整會變差。
太多時會造成整平不佳甚至產(chǎn)生麻點。
氯離子補給可使用氯化鈉（氯離子1mg/L=1.7mg/L）
或鹽酸（分析純37%）即氯離子1mg/L=0.0023ml/L.
(3)光劑：MU太少→>整體光澤整平不足，太多則光澤會出現(xiàn)白霧。
A 太少→>整體光澤會變?nèi)?，太多則高區(qū)容易有樹枝狀。
B 太少→>高區(qū)光澤不良，過多低區(qū)光澤不良。
（4）溫度：最適合的溫度為25℃。
依照現(xiàn)場情況亦可在25~30℃作業(yè)，但光劑的消耗量會增加。
（5）攪拌：攪拌不充分時容易發(fā)生燒焦。
（6）過濾：連續(xù)過濾，使用活性碳會除去相當程度的光劑。
（7）電流：必須以鍍件的形狀及作業(yè)條件等因素來決定。
電流密度不同則鍍層特性及光劑的消耗量會改變。
電流密度低時光劑的消耗量會增加，整平變差、內(nèi)應(yīng)力減少、硬度稍微提高現(xiàn)像。

名稱	使用范圍	標準范圍
硫酸銅	180－220g/L	200g/L
硫酸	60－90g/L	70g/L
氯離子	50--120mg/L	80mg/L
MU	4-8ml/L	7ml/L
A	0.3-0.8ml/L	0.5ml/L
B	0.1-0.4ml/L	0.3ml/L
陰極電流密度	1-5A/dm2
陽極電流密度	2A/dm2
浴溫	25℃(20-40℃)
攪拌	強列、均勻的空氣攪拌
陽極	磷銅（使用鈦籃和陽極袋）

成分：平時只須分析硫酸銅和硫酸的成份。
氯離子會隨著電解而減少。
光劑：消耗量會因電流密度、溫度、帶出等因素不同而影響。

MU	50~60ml/KAH
A	50~60ml/KAH
B	30~40ml/KAH

當活性碳處理后須再重建浴或補充相當程度的光劑。