光亮鍍銅、半光亮鍍銅均使用含磷0.035%~0.07%的磷銅板,不能使用電解純銅板。因?yàn)殡娊忏~板很容易溶解
,陽極電流效率大于理論值,使鍍液中銅含量逐漸增加;另一方面,純銅陽極溶解時(shí)產(chǎn)生少量Cu+,Cu+在鍍液中很不
穩(wěn)定,通過歧化反應(yīng)分解Cu2+和銅粉,后者附在陰極上部分脫落,成為泥渣,電鍍過程中共沉積在鍍層上,成為毛
刺;此外,Cu+哈影響鍍層的光亮度和整平性。在純銅中加入少量磷作為陽極,在硫酸鹽光亮鍍銅中,通過短時(shí)間電
解,陽極表面生成一層具有導(dǎo)電性能的Cu3P黑色膠狀膜。該膜的孔隙可允許銅離子自由通過,降低了陽極極化。加
快Cu+的氧化,阻止了Cu+的積累,又可使陽極的導(dǎo)電率稍有下降。電鍍時(shí),陽極的銅有98%轉(zhuǎn)化為鍍層(純銅只有
85%),使陰陽兩級(jí)電流效率趨于接近。同時(shí),還阻止了歧化反應(yīng),幾乎不產(chǎn)生銅粉和泥渣,這樣銅鍍層不產(chǎn)生毛刺
。但含磷量不宜過高,否則黑色膠膜增厚不易溶解,導(dǎo)致鍍銅液銅離子濃度降低,低電流密度區(qū)光亮度差。嚴(yán)重時(shí)
,黑色膠膜從陽極上脫落,污染鍍液,還會(huì)堵塞陽極袋組成槽電壓升高,鍍銅層出現(xiàn)細(xì)麻沙狀。好鍍銅添加劑找佛
山奇特思,你的最佳選擇。 由于鍍液中產(chǎn)生少量Cu+,用空氣攪拌,通過氧氣氧化可使Cu+轉(zhuǎn)化為Cu2+,但采
用陰極移動(dòng)時(shí),必須每個(gè)班次在鍍液中添加15%左右雙氧水0.2~0.4mL/L,將Cu+氧化為Cu2+。但此時(shí)鍍液中硫酸會(huì)
降低,應(yīng)通過分析,及時(shí)調(diào)整。 為了防止陽極中的雜質(zhì)掉入鍍液影響鍍層質(zhì)量,必須用747或731號(hào)條輪布將陽
極包住。 溫度對(duì)鍍層光澤性有明顯影響,一般隨著溫度升高,光亮電流密度也相應(yīng)升高,即低電流區(qū)半光亮擴(kuò)
大,光亮區(qū)向高電流區(qū)擴(kuò)展,并且光亮劑的消耗也相應(yīng)增加。當(dāng)上升到40~50℃以上時(shí),添加劑部分被破壞,光亮
作用消失。溫度過低時(shí),硫酸銅易結(jié)晶析出,陽極也易鈍化,所以一般控制溫度在10~40℃。硫酸鹽鍍銅電
流密度范圍較寬,而且與鍍液溫度、濃度、攪拌密切相關(guān)。光亮電流密度范圍隨著鍍液中硫酸銅含量的降低、硫酸
含量的增加而縮小,隨著溫度的增加、攪拌的加強(qiáng),光亮電流密度范圍增大陽極電流密度對(duì)于鍍液的穩(wěn)定
性和鍍層質(zhì)量也有明顯影響。當(dāng)陰極電流密度過高時(shí),鍍層光亮度差,添加劑的消耗也快,且易鈍化,因此當(dāng)使用
大電流電鍍時(shí)陽極面積必須充足。 光亮鍍銅工藝都要使用陰極移動(dòng)或空氣攪拌,以消除濃差極化,以便采用較
高的陰極電流密度,加快速度。攪拌的同時(shí),最好采用連續(xù)過濾。 鍍液長(zhǎng)時(shí)間超負(fù)荷工作,鍍層易出現(xiàn)光亮度
差、不均勻、添加劑消耗太快、陽極易鈍化、槽液電阻較大等問題,因此,每升槽液的電流最好不要超過0.5A。